一、主要優(yōu)化參數(shù)概述

霧化電壓（Spray Voltage）

控制電噴針端電勢(shì)，多數(shù)在2–4.5 kV。過(guò)低不霧化，過(guò)高有電弧、背景升高。

毛細(xì)管溫度 / 噴霧加熱溫度（Capillary/Desolvation Temp）

通常設(shè)為200–350°C。太低溶劑不易去除，太高易分解或非特異性碎裂。

干燥氣流速（Desolvation Gas / Nebulizer Gas）

優(yōu)化為足以輔助溶劑蒸發(fā)，常見(jiàn)氮?dú)饬髁?–8 L/min。

噴霧輔助氣（Auxiliary Gas）

有的儀器有，進(jìn)一步輔助溶劑去除，流量適當(dāng)即可。

進(jìn)樣流速（Flow Rate）

LC流速影響噴霧穩(wěn)定性，通常ESI流程小于0.2 mL/min（納流為最佳，0.2–1 μL/min），常規(guī)分析液1–1.0 mL/min也可，可根據(jù)錐口、針型號(hào)調(diào)整。

壓力與針尖位置

針距入口處1–2 mm為宜，均勻噴霧更有利電離。

離子化模式選擇（正離子/負(fù)離子）

根據(jù)分析物取向，調(diào)整離子源極性。

錐口電壓（Cone Voltage / Fragmentor）

影響離子遷移與初步碰撞，適度增加改善信號(hào)，太高則碎片化與背景增加。

碰撞能量（Collision Energy）

MS/MS分析時(shí)，碎裂特定母離子，需優(yōu)化至獲得代表性碎片。

二、優(yōu)化思路

1. 霧化與干燥過(guò)程

電壓：

起初設(shè)儀器推薦值，逐步增加并觀察目標(biāo)離子強(qiáng)度與背景噪聲變化；如背景劇升或失穩(wěn)，適當(dāng)降低。

溫度：

檢查是否有未完全脫溶劑的流失/意外降解；一般200–320°C，溫度高利于溶劑去除但易帶來(lái)非特異性離子。

氣體流速：

干燥氣流增加能強(qiáng)化脫溶劑，過(guò)高可能吹散小液滴導(dǎo)致信號(hào)不穩(wěn)，過(guò)低則溶劑太多，離子化效率下降。

2. 溶液與LC流速

納流ESI（nanoESI）

流速低，靈敏度高，但噴霧穩(wěn)定性難，需霧化針及低流速泵優(yōu)化。

常規(guī)LC/MS（0.2–1 mL/min）

高流速易產(chǎn)生大液滴，可能導(dǎo)致離子化效率下降，可用分流或錐型針。

3. 流動(dòng)相添加劑影響

酸性（如0.1%甲酸、醋酸）有利于正離子模式電離；

鹽濃度高容易抑制ESI（如NaCl>20 mM），宜稀釋、有條件換更低鹽或揮發(fā)性緩沖液。

4. 錐口電壓/Fragmentor

優(yōu)化至信號(hào)最大且碎片最少的位置；

太高易碎片化和前端碰撞丟失母離子，太低則發(fā)生離子捕獲不暢。

三、優(yōu)化操作的基本流程

單一標(biāo)準(zhǔn)物優(yōu)化

選目標(biāo)分析物標(biāo)準(zhǔn)溶液，從推薦值（電壓、氣流、溫度）出發(fā)，逐步調(diào)整各參數(shù)，記錄信號(hào)、背景變化。

看色譜峰形/離子豐度

選取最優(yōu)峰型和最大信號(hào)，不犧牲色譜分辨率和系統(tǒng)穩(wěn)定性為前提。

混合物復(fù)雜樣品進(jìn)一步優(yōu)化

綜合考慮背景、共洗脫物對(duì)離子化效率的影響。

多輪噪聲/靈敏度測(cè)試

檢查信號(hào)穩(wěn)定性與重現(xiàn)性，單參數(shù)最佳不一定整體最佳，需要綜合。

四、典型參數(shù)建議（以常用品牌為例，僅供起步）

Spray Voltage 電噴霧電壓：正模式3.0–4.5 kV，負(fù)模式2.0–4.0 kV。

Capillary Temp 毛細(xì)管溫度：250–320°C。

Gas Flow 干燥氣流：4–8 L/min（根據(jù)儀器）。

Auxiliary Gas：1–3 L/min（可選）。

Cone Voltage / Fragmentor 電壓：20–60 V（母離子/碎片信號(hào)最大處）。

LC流速：0.2–0.8 mL/min。

流動(dòng)相配套：低鹽、可揮發(fā)性緩沖液（甲酸、醋酸等）。

五、實(shí)用建議

逐步單變量?jī)?yōu)化，記錄各參數(shù)組合對(duì)應(yīng)信號(hào)強(qiáng)度和峰形。

注意通針、進(jìn)樣管清潔，防止堵塞影響噴霧和離子化效率。

針對(duì)不同分析物靈敏度差異，單獨(dú)做優(yōu)化。

如有樣品中鹽分、表面活性劑，需稀釋或前處理，防止噴霧針堵塞和電離抑制。